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拓荆科技冲刺IPO:盈利困境怎么破?

发布日期:2021-09-19 15:06   来源:未知   阅读:

  此次IPO,拓荆科技拟募集资金10亿元,其中3.99亿元和2.71亿元用于先进半导体设备的技术研发与改进项目和ALD设备研发与产业化项目,其余资金用于高端半导体设备扩产项目及补充流动资金。

  《商讯·公司金融》注意到,拓荆科技作为芯片制造设备商,在国内半导体制造领域拥有一定的优势,但拓荆科技持续高研发投入下,利润始终未见转正。这也说明了,在解决我国遭遇的芯片“卡脖子”问题上的难度。

  拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,其设备主要包括等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD)、原子层沉积设备(ALD)和次常压化学气相沉积设备(SACVD)三大类,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线nm及以下制程产品验证测试。

  其实,拓荆科技主要产品是半导体薄膜沉积设备、光刻机、刻蚀机,是芯片制造的三大核心设备。据了解,管家婆,拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商,产品累计发货超150套机台,有效降低国内集成电路生产线对国际设备厂商的依赖,加速替代。目前,随着“芯片荒”的持续,全球半导体厂商持续扩产,半导体设备制造公司有望持续受益。

  不过,招股书显示,报告期内,虽然拓荆科技的经营业绩逐年增长,但仍未能摆脱持续亏损的境地。

  营收增长了,并不意味着赚到了钱。拓荆科技2018-2021年3月,归属净利润分别为-10322.29万元、-1936.64万元、-1148.90万元和-1032.66万元,扣除非经常性损益后归属于母公司股东的净利润分别为-14993.05万元、-6246.63万元、-5711.62万元和-2400.90万元,亏损呈现逐年收窄的趋势。

  利润亏损的原因,《商讯·公司金融》注意到,拓荆科技的期间费用较高,在一定程度上侵占了净利润。

  2018年-2020年,拓荆科技的期间费用率随着营业收入的上升而逐年下降。2021年1-3月,其期间费用占营业收入的比例较2020年度上升,主要由于其所处半导体设备行业一季度收入较少,使得期间费用率上升。

  另外,报告期内,拓荆科技拥有较大力度的政府补助。2018-2021年3月份,拓荆科技收到的政府补助款项分别为4221.41万元、3686.86万元、25114.58万元和180.03万元,占各期经营活动现金流入小计的19.79%、13.50%、27.61%和1.10%。计入其他收益的政府补助金额分别为4691.53万元、4326.27万元、5096.14万元、1427.83万元,占当期营业收入的比重分别为66.41%、17.22%、11.70%和24.73%。若未来政府补助力度减弱,拓荆科技的业绩将进一步受到影响。

  由于半导体设备制造行业初期投入要求极高,不仅需要资金持续投入,技术储备也是要求相当高。难怪,拓荆科技获得了国家集成电路基金(以下称大基金)、中微公司、国投上海、苏州聚源等众多知名资本、企业的资金投入。目前,大基金为第一大股东,持股26.4833%。

  报告期内,拓荆科技的研发费用分别为10797.31万元、7431.87万元、12278.18万元和2714.86万元,占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%。研发费用金额较高和占营业收入的比例较大,是拓荆科技亏损主要原因。

  截至2021年3月31日,拓荆科技的科研人员142人,占员工总数的43.56%,其中海外技术专家及高端技术人才十余人。

  此次,拓荆科技IPO募集资金将继续加大对研发的投入。拓荆科技将投资39,948.34万元进行先进半导体设备的技术研发与改进项目,其中,设备购置8052.02万元,研发费用31113.02万元,基本预备费783.30万元。另将投资27094.85万元进行ALD 设备研发与产业化项目,其中工程建设费9969.93万元,设备购置2217.05万元,研发费用13204.20万元,基本预备费507.83万元,铺底流动资金1195.84万元。

  若此次拓荆股份成功登陆科创板,其研发能力将进一步加强。拓荆股份在招股书中表示,报告期内,公司持续不断的研发投入,使得公司产品日益成熟,www.835444.com。客户认可度逐年提高,公司营业收入高速增长。2018至2020年研发费用占营业收入的比例逐年降低,公司的亏损也逐年收窄,盈利能力逐步改善。

  拓荆科技主要业务收入来源于PECVD设备、ALD设备和 SACVD设备销售收入,其他业务收入主要来源于设备有关的备品备件销售及技术服务。

  其中,PECVD设备的销售收入为公司主营业务收入的最主要来源,报告期内占主营业务收入比重分别为77.98%、100%、97.55%和100%。

  拓荆科技表示,2018-2020年,公司主营业务收入快速增长,主要是由于PECVD产品收入高速增长。

  拓荆科技PECVD设备推出较早,产品线较为丰富,下游市场应用广阔,国内市场成熟。而ALD、SACVD 均处于产品发往不同客户端进行产线验证的市场开拓阶段,形成批量销售需经过不同客户的验证,周期存在不确定性。

  ALD 设备系集成电路先进制程晶圆制造的关键设备,晶圆制造产线制程越先进,对于ALD、SACVD设备数量的需求越多。我国集成电路制造产业起步较晚,晶圆制造产线制程与国际先进水平相比较为落后,先进制程产线处于发展建设阶段,具备先进制程晶圆制造能力的厂商较少。如果国内先进制程晶圆制造产线发展不及预期,市场对 ALD、SACVD设备的需求增长较小,拓荆科技ALD及SACVD设备未来销售增长将受到限制。

  行业方面,国内半导体设备厂商存在互相进入彼此业务领域,开发同类产品的可能。例如,在ALD设备领域,除拓荆科技外,、盛美股份、屹唐股份及已推出自产设备或有进入ALD设备市场的计划。

  同时,半导体设备行业具有很高的技术壁垒、市场壁垒和客户准入壁垒。目前公司的竞争对手主要为国际知名半导体设备制造商,与中国大陆半导体企业相比,国际巨头企业拥有客户端先发优势,产品线丰富、技术储备深厚、研发团队成熟、资金实力较强等优势,国际巨头还能为同时购买多种产品的客户提供捆绑折扣。

  2019 年度,在CVD设备全球市场中,应用材料(AMAT)、泛林半导体(Lam)、东京电子(TEL)的市场占有率分别为30%、21%和 19%;在ALD设备全球市场中,东京电子(TEL)、先晶半导体(ASMI)的市场占有率分别为 31%和 29%。相比国际巨头,拓荆科技的综合竞争力处于弱势地位,市场占有率较低。

  值得注意的是,拓荆科技在招股书中表示,根据已发出机台和在手订单情况,经初步测算,公司预计能在2021年度完成40台以上薄膜沉积设备的销售,实现营业收入5.5亿元以上,并在当年实现盈利。

  不过,《商讯·公司金融》注意到,在持续亏损的情况,拓荆科技的存货量也是在持续增加。

  存货中,发出商品是最主要的组成部分。报告期各期末,拓荆科技发出商品账面余额分别为17016.48万元、23503.18万元、36746.35万元、46148.64万元,占存货余额的比例分别为51.48%、65.68%、70.15%和69.99%。拓荆科技的账面余额较高且在报告期内随业务发展逐年增加。

  究其原因,招股书显示,拓荆科技的薄膜沉积设备产品进入市场需要经历较长的验证过程。在生产阶段主要根据客户的差异化需求和采购意向,进行定制化设计及生产制造。在产品交付后需要安装调试并运行一段时间后,客户才能完成验收。如果未来这些发出商品在客户端试运行未能验收通过而被退回,可能导致存货积压,以及出现补充计提存货跌价准备的情况,从而影响其流动资金及盈利水平。

  另外,拓荆科技还存在产量大于销量的问题。报告期内,拓荆科技PECVD的产量分别为9台、22台、50台、14台,销量分别为4台、19台、31台、4台,产销量分别为44.44%、86.36%、62.00%、28.57%;ALD仅在2018年销售1台,2020年生产1台;SACVD的产量分别为0台、1台、3台、2台,在2020年销售出1台。这或与营收确认的时点有关。